70年代中国就在研发芯片光刻机？

langfan

说一个冷笑话：

网络上流传过一张很模糊的图片（图1），这是一本名叫《光刻掩膜版的制造》，落款是武汉无线电三厂，1972年。
一些人如获至宝，以此证明中国早在1972年就已经掌握了光刻机技术，而当时ASML还没成立

我查了一下，武汉无线电三厂，是生产收音机的（图2），虽然和光刻机只有两个字不同，但它真的没有挑战ASML的能力与愿望。

光刻不是什么复杂的技术，它的目的和过去中学里的无线电兴趣小组制作电路版的方式没啥区别，原理则是普通照相馆里洗相片的技术。

洗相片是把一束光投过底片，在相纸上形成图案。
光刻是把一束光投过底片，在敷有光刻胶的基材上形成电路图。
这个底片，就是图1中所说的“光刻掩膜版”。

中国要造集成电路，当然要掌握光刻技术，而光刻掩膜版的制作又是其中一个环节。
图3是1976年的一篇文章，总结了国内光刻掩膜制作技术的情况，但这和ASML的光刻机是两码事。
有兴趣的同学到知网去下载这篇文章看看吧，光刻掩膜版的制作，没多难

光刻机的技术有三代：接触式、接近式、投影式。

据说中国在1965年就造出了接触式光刻机，我没查到，不过我信，因为它的原理就是把光刻掩膜贴到光刻胶上，然后拿个手电筒（比喻嘛）对着照，这东西真不难。

1978年，中科院半导体所开始研制半自动接近式光刻机（图4），到1981年定型。
看图5中的陈述：投影光刻技术有显著优点，但我们玩不了，只能先玩低端的……
当然，你可以说中科院半导体所不行，如果换成武汉无线电三厂，分分钟搞掂，秒杀ASML

有人或许要说：为什么不接着搞下去呢？
——谁跟你说没有接着搞下去了？

图6，1990年，由中科院光电所承担的直接分步重复投影光刻机样机研制成功；
图7，1996年，中科院成都光电所研制的0.8-1微米分步重复投影光刻机通过验收。
——现在中国的技术是90纳米吧，就是这样一步一步走过来的。

结论：
中国一直都有自主技术的光刻机，过去有，现在也有；
中国一直都没有世界领先水平的自主技术光刻机，过去没有，现在也没有。
中国一直都在研制自主技术的光刻机，70年代、80年代、90年代、新世纪，从未间断。

别拿着一本《光刻掩膜版的制造》当成什么新大陆到处忽悠了，好吗？

鲁班很嚣张

网上两一种思潮，
一种说如果中国当年坚持搞下去，发挥两弹一星精神，而不是用外国现成技术，现在或许已经掌握先进光刻机技术了。
还有一种就是买不如借,借不如租，没有必要费心研究。

第一种可能就是左倾冒进主义，国际先进光刻机技术是经过充分市场竞争和国际间市场配置形成的，从技术角度来讲美国一家都也不能垄断，美国能控制芯片的原因是他的国际领导能力，或者说霸权主义吧。

第二种是右倾投降思想，一味买现成的、租现成的，永远不会掌握核心技术。

目前我国光刻机最高技术应该是上海微电子所的90nm，合肥和无锡两家公司有稳定的200nm量产能力。
距离国际先进的7nm，差距仍巨大。
还是需要一步一个脚印，既不能故步自封，也不能也不能照搬盲从，只有从加强基础教育、改善科研环境、重视国际交流等多方面扎实推进技术进步。

文家二哥

华为的芯片研发能力，中芯国际的光刻机技术都有国际人才、技术交流的因素。
甚至包括两弹一星的基础也有留美人才回归，苏联指导
等因素。
不知道那些主张闭门造车的人到底是怎么想的？